WCC800コーティング装置スパッタ成膜プロセス
イオン源
- 表面洗浄用高エネルギープラズマ
- 表面粗さに影響を与えない原子レベルのエッチング。
- メンテナンスが簡単
ターゲット利用率を高めるための不均衡磁場設計。
- コーティングの種類：Cr、WC/C、TiAlNなど
- コーティングの種類：Cr、WC/C、TiAlNなど
- より優れたコーティング品質を提供する
- フィルム応力の低減
| モデル | WCC800 |
|---|---|
| テクノロジー | 1DCMS+3HiPIMS |
| コーティングの種類 | Cr、WC/C、TiAlNなど |
| エッチング | セット |
| 陰極の数 | 4 |
| サイズ（長さ×幅：mm） | 3750 × 1800 × 2500 |
| チャンバー容積（m³） | 0.8 |
| コーティング量（mm） | Φ650 × 400 |
| 耐荷重（樹木） | 8/または顧客の要望に応じて |
| 最大積載量（kg） | 350 |
| スピンドル径（mm） | Φ170 |
| 処理時間（時間） | 4～5 |
